Lithographie extrême ultraviolet
Touche la carte pour la faire tourner.
Commune
Lithographie extrême ultraviolet
Procédé de photolithographie
1/1Un exemplaire au monde.
- Aura (depuis 2015)
- 117 632
- Rang de la carte
- N° 131 296
- Type
- Notion
Extrait.
La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).
Crédits
Illustration
- Auteur
- JB Waldner
- Licence
- CC BY-SA 3.0
- Source
- Lithographie EUV.jpg · Wikimedia Commons
- Modifications
- Recadrage et effets visuels Devon (cadre, reflets holographiques).
Texte
Résumé et adapté de l’article « Lithographie extrême ultraviolet », Wikipédia en français. Licence CC BY-SA 4.0.
Aura : statistiques de consultation de l’API Wikimedia.